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EUV lithography
Extreme UV lithography
Extreme ultraviolet lithography
Grentz rays
Low-energy X-rays
Soft X rays
Soft X-ray camera
Soft X-ray lithography
Soft X-ray radiation
Soft X-rays
Soft component of cosmic rays
Soft radiation
Soft rays
Soft tissue X-ray - general

Traduction de «soft rays » (Anglais → Français) :

TERMINOLOGIE
voir aussi les traductions en contexte ci-dessous






soft radiation [ soft rays ]

rayonnement mou [ rayons mous ]




soft X-rays | soft X-ray radiation

rayons X mous | rayonnement X mou


soft component of cosmic rays

composante molle de rayonnement cosmique


extreme ultraviolet lithography | extreme UV lithography | EUV lithography | soft X-ray lithography

lithographie par ultraviolets extrêmes | lithographie aux ultraviolets extrêmes | lithographie ultraviolet extrême | lithographie UV extrême | lithographie EUV | lithographie par rayons X mous




Soft tissue X-ray - general

radiographie des tissus mous : en général
TRADUCTIONS EN CONTEXTE
HMRC has designed and commissioned the world's first computer-assisted operating suite equipped with an angiography/computed-tomography unit, which uses X-rays to create thin cross-section images through bone and soft tissue and then assembles them into three-dimensional representations.

Le centre de recherche sur la mobilité humaine a conçu et mis en service le premier bloc opératoire assisté par ordinateur au monde équipé d'un appareil d'angiographie et de tomographie par ordinateur, qui crée des images en trois dimensions des os et des tissus mous par la superposition de plusieurs fines coupes transversales.


Soft low-energy X-rays actually are more absorbed than the higher-energy cosmic rays you receive whilst flying and are thus more dangerous and not less dangerous to the skin and soft tissues.

Les rayons X à faible énergie sont en fait plus absorbés que les rayons cosmiques à plus haute énergie que vous recevez en vol, ils sont donc plus dangereux et non pas moins dangereux pour la peau et les tissus mous.


Research will focus on: computational models , advanced production technologies, including high quality optical coatings from soft x-rays to IR and including image-guided and computer-assisted systems for neurosurgery and radiotherapy, wearable sensors for patient monitoring and man-machine interface ; development of innovative materials; development of new in-vitro tests to replace animal experiments .

La recherche sera centrée sur: les modèles informatiques , les technologies de production avancées, y compris les enrobages optiques de qualité élevée, des rayons X doux à l'infrarouge, des systèmes de guidage par l'image et assistés par ordinateur pour la neurochirurgie et la radiothérapie, les capteurs portables pour le contrôle du patient et l'interface homme-machine ; la mise au point de matériaux innovants; le développement de nouvelles expérimentations in vitro pour remplacer l'expérimentation animale .


Research will focus on: computational models, advanced production technologies, including high quality optical coatings from soft x-rays to IR and including image‑guided and computer‑assisted systems for neurosurgery and radiotherapy, wearable sensors for patient monitoring and man-machine interface; development of innovative materials.

La recherche sera centrée sur: les modèles informatiques, les technologies de production avancées, y compris les enrobages optiques de qualité élevée, des rayons X doux à l'infrarouge, des systèmes de guidage par l'image et assistés par ordinateur pour la neurochirurgie et la radiothérapie, les capteurs portables pour le contrôle du patient et l'interface homme-machine; la mise au point de matériaux innovants dotés de caractéristiques améliorées.


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With the constant diminution in the semiconductor structure size, it is well established that within 10-11 years, the wave length of the light required in the lithography process will go past the ultra-violet spectrum into the Extreme-Ultra-Violet (EUV) or soft X-ray zone.

Étant donné que la taille des semi-conducteurs ne cesse de diminuer, il est largement admis que dans 10 à 11 ans, la longueur d'onde de la lumière qui sera nécessaire à la lithographie ira au-delà du spectre ultraviolet, atteignant l'extrême ultraviolet (EUV) ou la zone des rayons X mous.




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'soft rays' ->

Date index: 2023-09-20
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