Elle mène des recherches dans la technologie dite de «l'écriture par faisceau parallèle d'électrons sans masque» («maskless parallel electron beam writing» ou en abrégé «E-beam») destinée à servir aux machines de lithographie.
It is developing so-called 'maskless parallel electron beam writing' (in short: 'E-beam') technology that could be used in lithography machines.