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CVD
Chemical vapor deposition
Chemical vapour deposition
IVD
IVPO
IVPO process
Inside chemical vapor deposition
Inside deposition process
Inside process
Inside vapor deposition
Inside vapor phase oxidation
Inside vapor phase oxidation process
Inside vapor-phase oxidation process
Inside vapour deposition
Inside vapour deposition process
Inside vapour phase oxidation
Inside vapour phase oxidation process
Layer produced by chemical vapor deposition
MCVD
MCVD method
MCVD process
MIVPO
MOCVD
Metal organic chemical vapor deposition
Metal organic chemical vapour deposition
Metal-organic chemical vapor deposition
Metalorganic CVD
Modified CVD method
Modified chemical vapor deposition
Modified chemical vapor deposition process
Modified chemical vapour deposition
Modified chemical vapour deposition process
Modified inside vapor phase oxidation process
Modified inside vapour phase oxidation
Organometallic chemical vapour deposition
PACVD
PECVD
Plasma-activated CVD
Plasma-activated chemical vapor deposition
Plasma-assisted CVD
Plasma-assisted chemical vapor deposition
Plasma-enhanced CVD
Plasma-enhanced chemical vapor deposition

Translation of "Layer produced by chemical vapor deposition " (English → French) :

TERMINOLOGY
see also In-Context Translations below
layer produced by chemical vapor deposition

couche appliquée par dépôt de vapeur chimique


modified chemical vapor deposition process | modified chemical vapour deposition process | MCVD process | modified CVD method | modified inside vapor phase oxidation process | MCVD method | modified chemical vapor deposition | MCVD | modified chemical vapour deposition | modified inside vapour phase oxidation | MIVPO

méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur | procédé de dépôt intérieur modifié | méthode modifiée de déposition intérieure | procédé en phase vapeur modifié | procédé intérieur modifié | déposition en phase vapeur modifiée | méthode MCVD | procédé M. C. D. | méthode CVD modifiée


plasma-enhanced chemical vapor deposition | PECVD | plasma-enhanced CVD | plasma-assisted chemical vapor deposition | plasma-assisted CVD | plasma-activated chemical vapor deposition | PACVD | plasma-activated CVD

dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma | dépôt en phase vapeur assisté par plasma | dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma | dépôt en phase vapeur activé par plasma


metal organic chemical vapor deposition [ MOCVD | metal-organic chemical vapor deposition | metal organic chemical vapour deposition | metalorganic CVD | organometallic chemical vapour deposition ]

dépôt chimique en phase vapeur par composés organométalliques [ MOCVD | procédé MOCVD | traitement métallo-organique par dépôt chimique en phase vapeur | dépôt en phase vapeur à partir de composés organométalliques ]


inside vapor-phase oxidation process | inside vapor phase oxidation process | inside vapour phase oxidation process | IVPO process | inside deposition process | inside vapour deposition process | inside vapor phase oxidation | inside vapour phase oxidation | IVPO | inside process | inside vapor deposition | inside vapour deposition | IVD | inside chemical vapor depositio ...[+++]

méthode de dépôt interne en phase vapeur | procédé de dépôt intérieur | procédé interne | procédé intérieur | dépôt chimique en phase vapeur à l'intérieur | dépôt en phase vapeur à l'intérieur | dépôt à l'intérieur | technique IVPO | procédé I. P. O. | I. P.


metal organic chemical vapor deposition | organometallic chemical vapour deposition | MOCVD,vapor = American English [Abbr.]

dépôt de composés organométalliques en phase vapeur | dépôt de vapeur chimique de composés organométalliques | MOCVD [Abbr.]


chemical vapor deposition | chemical vapour deposition | CVD [Abbr.]

déposition en phase vapeur | dépôt chimique en phase vapeur | dépôt chimique phase vapeur | dépôt en phase vapeur | dépôt en phase vapeur par procédé chimique


modified chemical vapor deposition [ MCVD | modified chemical vapour deposition ]

dépôt chimique modifié en phase vapeur


chemical vapor deposition [ CVD | chemical vapour deposition ]

dépôt chimique en phase vapeur
IN-CONTEXT TRANSLATIONS
hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector.

aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs.


hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;

aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs;


the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition c ...[+++]

les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a mises sur le marché dans l'Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de ...[+++]


the quantity of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has imported into the Union, identifying the main categories of application in which the substance is used, specifying separately quantities placed on the market for destruction, feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical ...[+++]

les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a importée dans l'Union, en indiquant les principales catégories d'applications dans lesquelles la substance est utilisée, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour destruction, utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux ...[+++]


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the quantity of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has imported into the Union, identifying the main categories of application in which the substance is used, specifying separately quantities placed on the market for destruction, feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical ...[+++]

les quantités de chaque substance énumérée à l’annexe I et, le cas échéant, à l’annexe II, qu’il a importée dans l’Union, en indiquant les principales catégories d’applications dans lesquelles la substance est utilisée, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour destruction, utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d’inhalateurs doseurs destinés à l’administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux ...[+++]


the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition c ...[+++]

les quantités de chaque substance énumérée à l’annexe I et, le cas échéant, à l’annexe II, qu’il a mises sur le marché dans l’Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d’inhalateurs doseurs destinés à l’administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de ...[+++]


hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;

aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs;


producing, trading in or using substances that deplete the ozone layer (e.g. chemicals in fire extinguishers or cleaning solvents).

la production, la mise sur le marché ou l’utilisation de substances appauvrissant la couche d’ozone (par exemple les produits présents dans les extincteurs ou les solvants de nettoyage).


a. Zinc selenide (ZnSe) and zinc sulphide (ZnS) "substrate blanks" produced by the chemical vapour deposition process, having any of the following:

a". substrats bruts" en séléniure de zinc (ZnSe) et sulfure de zinc (ZnS) obtenus par dépôt en phase vapeur par procédé chimique, présentant l'une des caractéristiques suivantes:


Various methods of concentration are used, dependent on the particular mineral ore deposit, e.g., flotation, gravity, chemical, magnetic separation, etc., to produce a concentrate usually containing between 65 to 75 % tungsten oxide (WO3).

Différentes méthodes de concentration sont utilisées, selon le type de gisement, à savoir par flottation, par gravité, par séparation chimique, magnétique, etc., pour produire un concentré contenant généralement entre 65 et 75 % d'oxyde de tungstène (WO3).


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