Especially designed or prepared uranium vaporization systems which contain high-power strip or scanning electron beam guns with a delivered power on the target of more than 2.5 kW/cm.

http://laws-lois.justice.gc.ca (...) (...) [HTML] [2014-09-25]

Systèmes de vaporisation de l’uranium spécialement conçus ou préparés, renfermant des canons à électrons de grande puissance à faisceau en nappe ou à balayage, fournissant une puissance au niveau de la cible supérieure à 2,5 kW/cm.

http://laws-lois.justice.gc.ca (...) (...) [HTML] [2014-09-25]

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Especially designed or prepared systems for the generation of uranium plasma, which may contain high-power strip or scanning electron beam guns with a delivered power on the target of more than 2.5 kW/cm.

http://laws-lois.justice.gc.ca (...) (...) [HTML] [2014-09-25]

Systèmes de production de plasma d’uranium spécialement conçus ou préparés, pouvant renfermer des canons à électrons de grande puissance à faisceau en nappe ou à balayage, fournissant une puissance au niveau de la cible supérieure à 2,5 kW/cm.

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9. Low Energy Electron Microscopes being electron-optical devices with an operating energy of 500 kilo-electron volts (keV) or less in which a beam of electrons, focused by means of electron lenses, is used to produce an enlarged image of a minute object on a fluorescent screen, photographic plate or any other detector-display system, including both the transmission and scanning types of devices.

http://laws-lois.justice.gc.ca (...) (...) [HTML] [2014-09-25]

9. Microscopes électroniques de faible énergie : dispositifs d’optique électronique à transmission ou à balayage, ayant une énergie de fonctionnement de 500 kilo-électronvolts (keV) ou moins, dans lesquels on utilise un faisceau d’électrons, focalisé par des lentilles électroniques, pour produire sur un écran fluorescent, une plaque photographique ou un autre système de visualisation, une image agrandie d’un objet de petite taille.

http://laws-lois.justice.gc.ca (...) (...) [HTML] [2014-09-25]

http://laws-lois.justice.gc.ca (...) [HTML] [2014-09-25]

2. Equipment specially designed for mask making or semiconductor device processing using deflected focused electron beam, ion beam or "laser" beam, having any of the following:

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

2. équipements spécialement conçus pour la production de masques ou le traitement de dispositifs semi-conducteurs, utilisant un faisceau électronique, un faisceau ionique ou un faisceau "laser" avec focalisation et balayage du faisceau, présentant l'une des caractéristiques suivantes:

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2002-12-31]

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1. High power strip or scanning electron beam guns with a delivered power of more than 2,5 kW/cm for use in uranium vaporization systems;

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

1. canons à électrons de forte puissance (à faisceau en nappe ou à balayage) ayant une puissance fournie supérieure à 2,5 kW/cm, destinés à être utilisés dans des systèmes de vaporisation d'uranium;

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2002-12-31]

c". Stored programme controlled" electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW, having any of the following:

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

c. équipements de production à "commande par programme enregistré" pour le dépôt en phase vapeur par procédé physique par faisceau d'électrons (EB-PVD), comportant des systèmes d'alimentation de plus de 80 kW et présentant l'une des caractéristiques suivantes:

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2002-12-31]

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