(6) A change to machine-tools for working any material by removal of material by electro-chemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes for dry-etching patterns on semiconductor materials of subheading 8486.20 from any other good of subheading 8486.20 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:

http://laws-lois.justice.gc.ca (...) (...) [HTML] [2014-09-26]

(6) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma pour la gravure à sec du tracé sur les matières semi-conductrices de la sous-position 8486.20 de tout autre produit de la sous-position 8486.20 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :

http://laws-lois.justice.gc.ca (...) (...) [HTML] [2014-09-26]

http://laws-lois.justice.gc.ca (...) [HTML] [2014-09-26]

Flash x-ray generators or pulsed electron accelerators with peak energy of 500 keV or greater, as follows, except accelerators that are component parts of devices designed for purposes other than electron beam or x-ray radiation (electron microscopy, for example) and those designed for medical purposes:

http://laws-lois.justice.gc.ca (...) (...) [HTML] [2014-09-25]

Générateurs de radiographie éclair ou accélérateurs pulsés d’électrons ayant une énergie maximale égale ou supérieure à 500 keV comme suit, à l’exception des accélérateurs qui sont des composants de dispositifs destinés à d’autres fins que le rayonnement de faisceaux d’électrons ou de rayons X (pour la microscopie électronique par exemple) et ceux conçus à des fins médicales :

http://laws-lois.justice.gc.ca (...) (...) [HTML] [2014-09-25]

http://laws-lois.justice.gc.ca (...) [HTML] [2014-09-25]

Especially designed or prepared systems for the generation of uranium plasma, which may contain high-power strip or scanning electron beam guns with a delivered power on the target of more than 2.5 kW/cm.

http://laws-lois.justice.gc.ca (...) (...) [HTML] [2014-09-25]

Systèmes de production de plasma d’uranium spécialement conçus ou préparés, pouvant renfermer des canons à électrons de grande puissance à faisceau en nappe ou à balayage, fournissant une puissance au niveau de la cible supérieure à 2,5 kW/cm.

http://laws-lois.justice.gc.ca (...) (...) [HTML] [2014-09-25]

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It also generates primary and alternate flight plans and is used for post-flight debriefing functions. It includes a flight director that provides uncoupled guidance commands as well as coupled or autopilot engagements for several flight path, inertial navigation, and electronic navigation modes, including discrete search patterns.

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De plus, il produit des plans de vol primaires et secondaires et sert aux fonctions de débreffage après vol; directeur de vol qui fournit des ordres de guidage désaccouplés et un embrayage couplé (autopilote) pour plusieurs trajectoires de vol, navigation par système inertiel et modes de navigation électroniques, y compris des circuits de recherche discrets.

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