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PACVD
PAPVD
PECVD
PVD
PVD coated die
Physical gas phase deposition
Physical vapor deposition
Physical vapour deposition
Physical vapour deposition coated die
Plasma assisted chemical vapour deposition reactor
Plasma assisted physical vapour deposition
Plasma-activated CVD
Plasma-activated chemical vapor deposition
Plasma-assisted CVD
Plasma-assisted chemical vapor deposition
Plasma-enhanced CVD
Plasma-enhanced chemical vapor deposition
Plasma-enhanced chemical vapour deposition

Translation of "plasma assisted physical vapour deposition " (English → French) :

TERMINOLOGY
see also In-Context Translations below
plasma assisted physical vapour deposition | PAPVD [Abbr.]

déposition physique en phase vapeur assistée par plasma


plasma assisted chemical vapour deposition reactor

réacteur de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma


plasma-enhanced chemical vapor deposition | PECVD | plasma-enhanced CVD | plasma-assisted chemical vapor deposition | plasma-assisted CVD | plasma-activated chemical vapor deposition | PACVD | plasma-activated CVD

dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma | dépôt en phase vapeur assisté par plasma | dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma | dépôt en phase vapeur activé par plasma


physical vapor deposition | PVD | physical vapour deposition | physical gas phase deposition

dépôt physique en phase vapeur | dépôt physique en phase gazeuse | dépôt en phase vapeur


plasma-enhanced chemical vapour deposition | plasma-enhanced CVD | PECVD [Abbr.]

déposition par vapeur chimique utilisant le procédé plasma


physical vapour deposition [ PVD | physical vapor deposition ]

dépôt physique en phase vapeur


physical vapour deposition coated die [ PVD coated die ]

coin revêtu par dépôt physique en phase vapeur [ coin revêtu par PVD ]
IN-CONTEXT TRANSLATIONS
electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment;

équipement de production pour le dépôt en phase vapeur par procédé physique par faisceau d'électrons (EB-PVD);


This includes processes in which ion implantation is performed simultaneously with electron beam physical vapour deposition or sputter deposition.

Cela comprend les procédés dans lesquels l'implantation ionique est effectuée en même temps que le dépôt en phase vapeur par procédé physique par faisceau d'électrons ou le dépôt par pulvérisation cathodique.


b. Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition (TE-PVD) is an overlay coating process conducted in a vacuum with a pressure less than 0,1 Pa wherein a source of thermal energy is used to vaporise the coating material.

b. Le dépôt en phase vapeur par procédé physique par évaporation thermique (TE-PVD) est un procédé de revêtement par recouvrement exécuté dans un vide, à une pression inférieure à 0,1 Pa, par lequel une source d'énergie thermique est utilisée pour la vaporisation du matériau de revêtement.


c". Stored programme controlled" electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW, having any of the following:

c. équipements de production à "commande par programme enregistré" pour le dépôt en phase vapeur par procédé physique par faisceau d'électrons (EB-PVD), comportant des systèmes d'alimentation de plus de 80 kW et présentant l'une des caractéristiques suivantes:


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CVD includes the following processes: directed gas flow out-of-pack deposition, pulsating CVD, controlled nucleation thermal deposition (CNTD), plasma enhanced or plasma assisted CVD processes.

Le dépôt en phase vapeur par procédé chimique (CVD) comprend les procédés suivants: dépôt hors caisse à flux de gaz dirigé, dépôt en phase vapeur par procédé chimique pulsatoire, dépôt thermique par nucléation contrôlée (CNTD), dépôt en phase vapeur par procédé chimique amélioré par plasma ou assisté par plasma.


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