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Fréquence de Langmuir
Fréquence plasma
Fréquence plasma des ions
Fréquence plasma des électrons
Fréquence plasma ionique
Fréquence plasma électronique
Plasma d'électrons cyclotroniques
Plasma inductif
Plasma induit
Plasma induit par haute fréquence
Plasma à couplage inductif
Spectromètre d'émission ICP-AES
Spectromètre d'émission ICP-OES
Spectrométrie d'émission ICP-AES
Spectrométrie d'émission ICP-OES
Spectroscopie d'émission avec plasma inductif HF
Torche de plasma d'argon de haute fréquence

Translation of "fréquence plasma des électrons " (French → English) :

TERMINOLOGY
see also In-Context Translations below
fréquence de Langmuir | fréquence plasma | fréquence plasma des électrons | fréquence plasma électronique

electron plasma frequency | Langmuir frequency | plasma frequency


plasma à couplage inductif | plasma inductif | plasma induit par haute fréquence | plasma induit

inductively coupled plasma | ICP


fréquence plasma des ions | fréquence plasma ionique

ion plasma frequency


plasma d'électrons cyclotroniques

electron cyclotron plasma ecp


spectroscopie d'émission avec plasma induit par haute fréquence [ SE/PIHF | spectroscopie d'émission de plasma induit par haute fréquence | spectroscopie d'émission avec plasma inductif HF | spectroscopie d'émission optique avec une source de plasma d'argon induit par haute fréquence ]

inductively-coupled plasma-atomic emission spectroscopy [ inductively coupled plasma atomic emission spectroscopy | inductively coupled plasma optical emission spectroscopy | inductively coupled plasma emission spectroscopy | inductively coupled argon plasma emission spectroscopy | inductively coupled argon plasma spect ]


spectromètre d'émission atomique à plasma à couplage inductif | spectromètre d'émission atomique à plasma induit par haute fréquence | spectromètre d'émission optique à plasma à couplage inductif | spectromètre d'émission optique à plasma induit par haute fréquence | spectromètre d'émission ICP-AES | spectromètre d'émission ICP-OES

inductively coupled plasma-atomic emission spectrometer | ICP-AES | inductively coupled plasma-optical emission spectrometer | ICP-OES | ICP-atomic emission spectrometer | ICP-optical emission spectrometer


spectrométrie d'émission atomique à plasma à couplage inductif | spectrométrie d'émission atomique à plasma induit par haute fréquence | spectrométrie d'émission optique à plasma à couplage inductif | spectrométrie d'émission optique à plasma induit par haute fréquence | spectrométrie d'émission ICP-AES | spectrométrie d'émission ICP-OES

inductively coupled plasma-atomic emission spectrometry | ICP-AES | inductively coupled plasma-optical emission spectrometry | ICP-OES | ICP-atomic emission spectrometry | ICP-optical emission spectrometry


torche de plasma d'argon de haute fréquence

high frequency argon plasma torch


Projet d'étude de la propagation des ondes de haute fréquence dans les plasmas spatiaux

Waves in Space Plasmas/High Frequency
IN-CONTEXT TRANSLATIONS
Le 15 juin 2009, conformément à l’article 4, paragraphe 2, de la décision no 676/2002/CE, la Commission a confié un mandat à la Conférence européenne des administrations des postes et des télécommunications (CEPT) en vue de définir les conditions techniques les moins restrictives pour les bandes de fréquences concernées par la Wapecs (Wireless Access Policy for Electronic Communications Services, politique d’accès sans fil pour les communications électroniques).

Pursuant to Article 4(2) of Decision No 676/2002/EC, the Commission gave on 15 June 2009 a mandate to the European Conference of Postal and Telecommunications Administrations (the ‘CEPT’) to develop least restrictive technical conditions for frequency bands addressed in the context of the Wireless Access Policy for Electronic Communications Services (WAPECS).


Conteneurs cylindriques spécialement conçus ou préparés pour les usines d’enrichissement par séparation des isotopes dans un plasma et destinés à loger la source de plasma d’uranium, la bobine excitatrice à haute fréquence et les collecteurs du produit et des résidus.

Cylindrical vessels especially designed or prepared for use in plasma separation enrichment plants for containing the uranium plasma source, radio-frequency drive coil and the product and tails collectors.


Systèmes de production de plasma d’uranium spécialement conçus ou préparés, pouvant renfermer des canons à électrons de grande puissance à faisceau en nappe ou à balayage, fournissant une puissance au niveau de la cible supérieure à 2,5 kW/cm.

Especially designed or prepared systems for the generation of uranium plasma, which may contain high-power strip or scanning electron beam guns with a delivered power on the target of more than 2.5 kW/cm.


b) fours de fusion à faisceaux d’électrons et fours à atomisation et à fusion à plasma ayant une puissance égale ou supérieure à 50 kW et capables de fonctionner à des températures de fusion supérieures à 1 200 °C.

(b) electron beam melting and plasma atomization and melting furnaces with a power of 50 kW or greater and capable of operating with melting temperatures above 1 200°C.


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Machines et appareils pour le brasage ou le soudage, même pouvant couper, électriques, y compris ceux aux gaz chauffés électriquement, ou opérant par laser, faisceaux de lumière, de photons ou d'électrons, par ultrasons, par impulsions magnétiques ou au jet de plasma; machines et appareils électriques pour la projection à chaud de métaux, de carbures métalliques frittés ou de cermets; leurs parties (sauf pistolets de projection à chaud)

Electric (including electrically heated gas), laser or other light or photon beam, ultrasonic, magnetic pulse or plasma arc soldering, brazing or welding machines and apparatus, whether or not capable of cutting; electric machines and apparatus for hot spraying of metals, metal carbides or cermets; parts thereof (excl. guns for spraying hot materials)


Machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par laser ou autre faisceau de lumière ou de photons, par ultrasons, par électro-érosion, par procédés électrochimiques, par faisceaux d'électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma; machines à découper par jet d'eau

Machine tools for working any material by removal of material, by laser or other light or photon beam, ultrasonic, electrodischarge, electrochemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes; water-jet cutting machines


(Le document est déposé) Question n 1340 M. Matthew Kellway: En ce qui concerne les centres de prélèvement de plasma sanguin à but lucratif proposés à Toronto et à Hamilton (Ontario): a) quand les exploitants des centres de prélèvement de plasma sanguin à but lucratif proposés ont-ils contacté Santé Canada; b) combien de consultations ont eu lieu entre Santé Canada et les exploitants des centres de prélèvement proposés; c) combien de consultations ont eu lieu entre Santé Canada et (i) la Société canadienne du sang, (ii) la province ...[+++]

(Return tabled) Question No. 1340 Mr. Matthew Kellway: With regard to the issue of the proposed for-profit blood plasma clinics in Toronto and Hamilton, Ontario: (a) when was Health Canada approached by the operators of the proposed for-profit blood plasma clinics; (b) how many consultations took place between Health Canada and the operators of the proposed for-profit blood plasma clinics; (c) how many consultations took place between Health Canada and (i) Canadian Blood Services, (ii) the province of Ontario; (d) when did these consultations take place and if no consultations took place, how did Health Canada determine that consultat ...[+++]


25. L’oxyde de plomb utilisé dans les écrans plasma (PDP) et les écrans à émission d’électrons par conduction de surface (SED) pour les éléments structuraux tels que les couches diélectriques des verres avant et arrière, le bus électrode, les bandes noires, l’électrode d’adressage, les barrières, la fritte de verre de scellement et de queusot, ainsi que dans les pâtes d’impression.

25. Lead oxide in plasma display panels (PDP) and surface conduction electron emitter displays (SED) used in structural elements; notably in the front and rear glass dielectric layer, the bus electrode, the black stripe, the address electrode, the barrier ribs, the seal frit and frit ring as well as in print pastes.


L’oxyde de plomb utilisé dans les écrans plasma (PDP) et les écrans à émission d’électrons par conduction de surface (SED) pour les éléments structuraux tels que les couches diélectriques des verres avant et arrière, le bus électrode, les bandes noires, l’électrode d’adressage, les barrières, la fritte de verre de scellement et de queusot, ainsi que dans les pâtes d’impression.

Lead oxide in plasma display panels (PDP) and surface conduction electron emitter displays (SED) used in structural elements; notably in the front and rear glass dielectric layer, the bus electrode, the black stripe, the address electrode, the barrier ribs, the seal frit and frit ring as well as in print pastes.


La décision pourrait intervenir au début des années 90 (*) plasma : milieu gazeux isonisé formé de noyaux positifs et d'électrons

The decision could be taken at the beginning of the nineties. * Plasma: ionized gas composed of positive nuclei and electrons.


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