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EB-PVD
Electron beam physical vapour deposition
PVD
PVD coated die
Physical gas phase deposition
Physical vapor deposition
Physical vapour deposition
Physical vapour deposition coated die
TE-PVD
Thermal-evaporation physical vapour deposition

Translation of "Electron beam physical vapour deposition " (English → French) :

TERMINOLOGY
see also In-Context Translations below
electron beam physical vapour deposition | EB-PVD [Abbr.]

dépôt en phase vapeur par procédé physique par faisceau d'électrons


electron beam physical vapour deposition

dépôt en phase vapeur par faisceau d'électrons


physical vapor deposition | PVD | physical vapour deposition | physical gas phase deposition

dépôt physique en phase vapeur | dépôt physique en phase gazeuse | dépôt en phase vapeur


physical vapour deposition [ PVD | physical vapor deposition ]

dépôt physique en phase vapeur


thermal-evaporation physical vapour deposition | TE-PVD [Abbr.]

dépôt en phase vapeur par procédé physique par évaporation thermique


physical vapour deposition coated die [ PVD coated die ]

coin revêtu par dépôt physique en phase vapeur [ coin revêtu par PVD ]
IN-CONTEXT TRANSLATIONS
electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment;

équipement de production pour le dépôt en phase vapeur par procédé physique par faisceau d'électrons (EB-PVD);


Especially designed or prepared cylindrical or rectangular vessels for containing the uranium metal vapour source, the electron beam gun, and the product and tails collectors.

Conteneurs de forme cylindrique ou rectangulaire spécialement conçus ou préparés pour loger la source de vapeur d’uranium métal, le canon à électrons et les collecteurs du produit et des résidus.


This includes processes in which ion implantation is performed simultaneously with electron beam physical vapour deposition or sputter deposition.

Cela comprend les procédés dans lesquels l'implantation ionique est effectuée en même temps que le dépôt en phase vapeur par procédé physique par faisceau d'électrons ou le dépôt par pulvérisation cathodique.


c". Stored programme controlled" electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW, having any of the following:

c. équipements de production à "commande par programme enregistré" pour le dépôt en phase vapeur par procédé physique par faisceau d'électrons (EB-PVD), comportant des systèmes d'alimentation de plus de 80 kW et présentant l'une des caractéristiques suivantes:


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b. Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition (TE-PVD) is an overlay coating process conducted in a vacuum with a pressure less than 0,1 Pa wherein a source of thermal energy is used to vaporise the coating material.

b. Le dépôt en phase vapeur par procédé physique par évaporation thermique (TE-PVD) est un procédé de revêtement par recouvrement exécuté dans un vide, à une pression inférieure à 0,1 Pa, par lequel une source d'énergie thermique est utilisée pour la vaporisation du matériau de revêtement.


4. Separator module housings (cylindrical or rectangular vessels) for containing the uranium metal vapour source, the electron beam gun and the product and tails collectors;

4. enceintes de modules séparateurs (conteneurs cylindriques ou rectangulaires) pour loger la source de vapeur d'uranium métal, le canon à électrons et les collecteurs du produit et des résidus;




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'Electron beam physical vapour deposition' ->

Date index: 2021-08-21
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