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E-beam lithography
EBL
EPL
Electron beam lithography
Electron beam projection lithography
Electron projection lithography
Electron-beam lithography
Electronic lithography
IPL
Ion beam projection lithography
Ion projection lithography
Projection electron lithography
Projection ion lithography

Traduction de «Electron beam projection lithography » (Anglais → Français) :

TERMINOLOGIE
voir aussi les traductions en contexte ci-dessous
electron beam projection lithography | electron projection lithography | EPL | projection electron lithography

lithographie par projection de faisceau d'électrons | lithographie par projection de faisceau électronique | lithographie par projection électronique | lithographie électronique par projection | lithographie électronique de projection


ion beam projection lithography | ion projection lithography | IPL [Abbr.]

lithographie par projection ionique


ion beam projection lithography | ion projection lithography | IPL | projection ion lithography

lithographie par projection d'ions | lithographie par projection ionique | lithographie ionique par projection | lithographie ionique de projection


electron-beam lithography [ EBL | e-beam lithography | electronic lithography ]

lithographie par faisceau électronique [ lithographie par faisceau d'électrons | électromasquage | masquage électronique | masquage par faisceau d'électrons ]


electron beam lithography | EBL | e-beam lithography

lithographie par faisceau d'électrons | LFE | lithographie par faisceau électronique | LFE | lithographie à faisceau d'électrons | LFE | lithographie à faisceau électronique | LFE | lithographie électronique


electron beam lithography

lithographie électronique | masquage électronique | microlithographie par masquage électronique
TRADUCTIONS EN CONTEXTE
It is developing so-called 'maskless parallel electron beam writing' (in short: 'E-beam') technology that could be used in lithography machines.

Elle mène des recherches dans la technologie dite de «l'écriture par faisceau parallèle d'électrons sans masque» («maskless parallel electron beam writing» ou en abrégé «E-beam») destinée à servir aux machines de lithographie.


It also competes with other technologies (like X-ray and electron beam lithography), that have also been intensely studied in the USA.

Elle est également en concurrence avec d'autres techniques (telles que le rayon X et la lithographie par faisceau électronique), qui ont également fait l'objet de nombreuses études aux États-Unis.




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'Electron beam projection lithography' ->

Date index: 2022-01-06
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