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Direct-beam lithography
E-beam heating
E-beam lithography
E-beam pattern generator
EBL
Electron beam lithography
Electron-beam lithography
Electron-beam maskmaker
Electron-beam pattern generator
Electronic lithography
FIB lithography
FIBL
Focused ion beam lithography
Guard electron beam welding machine
IPL
Ion beam lithography
Ion beam projection lithography
Ion projection lithography
Mask generator electron-beam machine
Oversee electron beam welding machine
Tend electron beam welding machine

Translation of "e-beam lithography " (English → French) :

TERMINOLOGY
see also In-Context Translations below
electron-beam lithography [ EBL | e-beam lithography | electronic lithography ]

lithographie par faisceau électronique [ lithographie par faisceau d'électrons | électromasquage | masquage électronique | masquage par faisceau d'électrons ]


electron beam lithography | EBL | e-beam lithography

lithographie par faisceau d'électrons | LFE | lithographie par faisceau électronique | LFE | lithographie à faisceau d'électrons | LFE | lithographie à faisceau électronique | LFE | lithographie électronique


electron beam lithography

lithographie électronique | masquage électronique | microlithographie par masquage électronique




focused ion beam lithography | FIBL | FIB lithography

lithographie par faisceau d'ions focalisé | lithographie par faisceau d'ions focalisés | lithographie par faisceau ionique focalisé | lithographie à faisceau d'ions focalisé | lithographie à faisceau d'ions focalisés | lithographie à faisceau ionique focalisé


electron-beam pattern generator [ e-beam pattern generator | electron-beam maskmaker | mask generator electron-beam machine ]

masqueur électronique [ électrocomposeur | composeur électronique ]






ion beam projection lithography | ion projection lithography | IPL [Abbr.]

lithographie par projection ionique


guard electron beam welding machine | oversee electron beam heating and bonding machine units | oversee electron beam welding machine | tend electron beam welding machine

utiliser un appareil de soudage par faisceau d’électrons
IN-CONTEXT TRANSLATIONS
The European Commission has authorised The Netherlands to grant €15.6 million of soft loans and a direct grant of €5.7 million to Mapper Lithography B.V, for the development of 'E-beam lithography'.

La Commission européenne a autorisé l'État néerlandais à verser à la société Mapper Lithography B.V 15,6 millions € en prêts à taux réduit et 5,7 millions € en aide directe, afin qu'elle développe la lithographie par faisceau d'électrons.


It is developing so-called 'maskless parallel electron beam writing' (in short: 'E-beam') technology that could be used in lithography machines.

Elle mène des recherches dans la technologie dite de «l'écriture par faisceau parallèle d'électrons sans masque» («maskless parallel electron beam writing» ou en abrégé «E-beam») destinée à servir aux machines de lithographie.


It also competes with other technologies (like X-ray and electron beam lithography), that have also been intensely studied in the USA.

Elle est également en concurrence avec d'autres techniques (telles que le rayon X et la lithographie par faisceau électronique), qui ont également fait l'objet de nombreuses études aux États-Unis.


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