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E-beam pattern generator
EPG
Electron-beam mask generator
Electron-beam maskmaker
Electron-beam pattern generator
Electron-beam-sensitive diffusion mask
Mask generator electron-beam machine

Traduction de «Electron-beam mask generator » (Anglais → Français) :

TERMINOLOGIE
voir aussi les traductions en contexte ci-dessous
electron-beam pattern generator | EPG | electron-beam maskmaker | electron-beam mask generator

électrocomposeur


electron-beam pattern generator [ e-beam pattern generator | electron-beam maskmaker | mask generator electron-beam machine ]

masqueur électronique [ électrocomposeur | composeur électronique ]


electron-beam pattern generator

générateur de patrons de faisceaux électroniques


electron-beam-sensitive diffusion mask

masque de diffusion sensible à un faisceau électronique
TRADUCTIONS EN CONTEXTE
Flash x-ray generators or pulsed electron accelerators with peak energy of 500 keV or greater, as follows, except accelerators that are component parts of devices designed for purposes other than electron beam or x-ray radiation (electron microscopy, for example) and those designed for medical purposes:

Générateurs de radiographie éclair ou accélérateurs pulsés d’électrons ayant une énergie maximale égale ou supérieure à 500 keV comme suit, à l’exception des accélérateurs qui sont des composants de dispositifs destinés à d’autres fins que le rayonnement de faisceaux d’électrons ou de rayons X (pour la microscopie électronique par exemple) et ceux conçus à des fins médicales :


Especially designed or prepared systems for the generation of uranium plasma, which may contain high-power strip or scanning electron beam guns with a delivered power on the target of more than 2.5 kW/cm.

Systèmes de production de plasma d’uranium spécialement conçus ou préparés, pouvant renfermer des canons à électrons de grande puissance à faisceau en nappe ou à balayage, fournissant une puissance au niveau de la cible supérieure à 2,5 kW/cm.


E-beam' consists in using parallel electronic beams that 'write' the blueprint of a chip on a wafer (without any mask).

La technique «E-beam» consiste à utiliser des faisceaux électroniques parallèles qui «écrivent» le croquis d'un circuit sur une plaquette (sans projection de masque).


2. Equipment specially designed for mask making or semiconductor device processing using deflected focused electron beam, ion beam or "laser" beam, having any of the following:

2. équipements spécialement conçus pour la production de masques ou le traitement de dispositifs semi-conducteurs, utilisant un faisceau électronique, un faisceau ionique ou un faisceau "laser" avec focalisation et balayage du faisceau, présentant l'une des caractéristiques suivantes:




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'Electron-beam mask generator' ->

Date index: 2022-02-27
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