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E-beam machine
E-beam pattern generator
EBM
EPG
Electron Beam Machining
Electron beam heating and bonding machine elements
Electron beam heating and bonding machine units
Electron beam machine
Electron beam welder
Electron beam welding machine
Electron beam welding machine parts
Electron beam welding machine pieces
Electron-beam mask generator
Electron-beam maskmaker
Electron-beam pattern generator
Electronic bombardment welding machine
Guard electron beam welding machine
Mask generator electron-beam machine
Oversee electron beam welding machine
Tend electron beam welding machine

Translation of "Mask generator electron-beam machine " (English → French) :

TERMINOLOGY
see also In-Context Translations below
electron-beam pattern generator [ e-beam pattern generator | electron-beam maskmaker | mask generator electron-beam machine ]

masqueur électronique [ électrocomposeur | composeur électronique ]


E-beam machine | electron beam machine

machine à faisceau électronique


electron beam machine

machine d'usinage par faisceau d'électrons


electron beam machine

machine d'usinage par faisceau d'électrons


Electron Beam Machining | EBM [Abbr.]

usinage par faisceau d'électrons


electron-beam pattern generator | EPG | electron-beam maskmaker | electron-beam mask generator

électrocomposeur


guard electron beam welding machine | oversee electron beam heating and bonding machine units | oversee electron beam welding machine | tend electron beam welding machine

utiliser un appareil de soudage par faisceau d’électrons


electron beam heating and bonding machine elements | electron beam heating and bonding machine units | electron beam welding machine parts | electron beam welding machine pieces

pièces de machines de soudage par faisceau d’électrons


electron beam welder [ electron beam welding machine | electronic bombardment welding machine ]

machine à souder par bombardement électronique [ machine à souder par faisceau d'électrons | machine à souder à faisceau d'électrons | machine de soudage par bombardement électronique ]
IN-CONTEXT TRANSLATIONS
(6) A change to machine-tools for working any material by removal of material by electro-chemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes for dry-etching patterns on semiconductor materials of subheading 8486.20 from any other good of subheading 8486.20 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:

(6) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma pour la gravure à sec du tracé sur les matières semi-conductrices de la sous-position 8486.20 de tout autre produit de la sous-position 8486.20 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :


(4) A change to machine-tools for working any material by removal of material by electro-chemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes of subheading 8486.10 from any other good of subheading 8486.10 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:

(4) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma de la sous-position 8486.10 de tout autre produit de la sous-position 8486.10 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :


(16) A change to machine-tools for working any material by removal of material, by electro-chemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes of subheading 8486.40 from any other good of subheading 8486.40 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:

(16) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma de la sous-position 8486.40 de tout autre produit de la sous-position 8486.40 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :


(1) A change to machine-tools for working any material by removal of material by electro-chemical, electron beam, ionic-beam, electro-discharge or plasma arc processes of subheading 8486.30 from any other good of subheading 8486.30 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:

(1) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques, par électro-érosion ou par jet de plasma de la sous-position 8486.30 de tout autre produit de la sous-position 8486.30 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :


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Machine tools for working any material by removal of material, by laser or other light or photon beam, ultrasonic, electrodischarge, electrochemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes; water-jet cutting machines

Machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par laser ou autre faisceau de lumière ou de photons, par ultrasons, par électro-érosion, par procédés électrochimiques, par faisceaux d'électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma; machines à découper par jet d'eau


8515 | Electric (including electrically heated gas), laser or other light or photon beam, ultrasonic, electron beam, magnetic pulse or plasma arc soldering, brazing or welding machines and apparatus, whether or not capable of cutting; electric machines and apparatus for hot spraying of metals or cermets | Manufacture from materials of any heading, except that of the product | Manufacture in which the value of all the materials use ...[+++]

8515 | Machines et appareils pour le brasage ou le soudage (même pouvant couper), électriques (y compris ceux aux gaz chauffés électriquement) ou opérant par laser ou autres faisceaux de lumière ou de photons, par ultrasons, par faisceaux d'électrons, par impulsions magnétiques ou au jet de plasma; machines et appareils électriques pour la projection à chaud de métaux ou de cermets | Fabrication à partir de matières de toute position, à l'exclusion des matières de la même position que le produit | Fabrication dans laquelle la valeur de toutes les matières utilisées ne doit pas excéder 50 % du prix départ usine du produit |


8456 | Machine tolls for working any material by removal of material, by laser or other light or photon beam, ultrasonic, electrodischarge, electrochemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes | Manufacture from materials of any heading, except that of the product | Manufacture in which the value of all the materials used does not exceed 45 % of the ex-works price of the product |

8456 | Machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par laser ou autre faisceau de lumière ou de photons, par ultrasons, par électro-érosion, par procédés électrochimiques, par faisceaux d'électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma | Fabrication à partir de matières de toute position, à l'exclusion des matières de la même position que le produit | Fabrication dans laquelle la valeur de toutes les matières utilisées ne doit pas excéder 45 % du prix départ usine du produit |


E-beam' consists in using parallel electronic beams that 'write' the blueprint of a chip on a wafer (without any mask).

La technique «E-beam» consiste à utiliser des faisceaux électroniques parallèles qui «écrivent» le croquis d'un circuit sur une plaquette (sans projection de masque).


ex 8486 | Machine tools for working any material by removal of material, by laser or other light or photon beam, ultrasonic, electrodischarge, electrochemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes | Manufacture in which the value of all the materials used does not exceed 40 % of the ex-works price of the product | |

ex 8486 | – Machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par laser ou autre faisceau de lumière ou de photons, par ultrasons, par électro-érosion, par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma | Fabrication dans laquelle la valeur de toutes les matières utilisées ne doit pas excéder 40 % du prix départ usine du produit | |


2. Equipment specially designed for mask making or semiconductor device processing using deflected focused electron beam, ion beam or "laser" beam, having any of the following:

2. équipements spécialement conçus pour la production de masques ou le traitement de dispositifs semi-conducteurs, utilisant un faisceau électronique, un faisceau ionique ou un faisceau "laser" avec focalisation et balayage du faisceau, présentant l'une des caractéristiques suivantes:


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