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CMOS
MOS
MOS complémentaire
Métal-oxyde-silicium
Métal-oxyde-silicium complémentaire
Semi-conducteur complémentaire à l'oxyde de métal
Semi-conducteur à oxyde de métal complémentaire
Technologie MOS

Translation of "Métal-oxyde-silicium complémentaire " (French → English) :

TERMINOLOGY
see also In-Context Translations below
métal-oxyde-silicium complémentaire | CMOS [Abbr.]

complementary metal oxide silicon | CMOS [Abbr.]


métal-oxyde-silicium | MOS [Abbr.]

metal-oxide-silicon | MOS [Abbr.]


technologie MOS (métal - oxyde - silicium)

MOS technology


circuit à semiconducteur oxyde-métal à symétrie complémentaire

CMOS circuit


CMOS | semi-conducteur à oxyde de métal complémentaire | MOS complémentaire

CMOS | complementary metal-oxide semiconductor | complementary MOS


MOS complémentaire [ CMOS | semi-conducteur complémentaire à l'oxyde de métal ]

complementary metal-oxide semiconductor [ CMOS | complementary metal oxide semiconductor | complementary MOS | complementary metal-oxide-silicon ]
IN-CONTEXT TRANSLATIONS
[12] La technologie métal-oxyde-semi-conducteur complémentaire (CMOS) est la technologie standard pour les circuits intégrés de la piste «more Moore».

[12] Complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) is the standard technology for integrated circuits in the "more Moore" track


Les produits considérés et les produits similaires sont les mêmes que lors de l'enquête initiale, à savoir certains types de microcircuits électroniques dits «DRAM» (dynamic random access memories — mémoires dynamiques à accès aléatoire), de tous types, densités (y compris les densités non encore existantes) et variantes, assemblés ou non, sous forme de disques ou de microplaquettes transformés, fabriqués à l'aide de variantes du procédé métal-oxyde-semi-conducteur (MOS), y compris certains types de MOS complémentaire (CMOS), quels que s ...[+++]

The product under consideration and the like product are the same as that covered by the original investigation, i.e. certain electronic microcircuits known as dynamic random access memories (DRAMs), of all types, densities and variations, whether assembled, in processed wafer or chips (dies), manufactured using variations of metal oxide-semiconductors (MOS) process technology, including complementary MOS types (CMOS), of all densities (including future densities), irrespective of access speed, configuration, package or frame etc., originating in the Republic of Korea.


Les produits faisant l'objet du réexamen sont certains circuits électroniques intégrés dits «DRAM» (dynamic random access memories — mémoires dynamiques à accès aléatoire), fabriqués à l'aide de variantes du procédé métal-oxyde-semi-conducteur (MOS), y compris certains types de MOS complémentaire (CMOS), de tous types, densités et variantes, quels que soient leur vitesse d'accès, leur configuration, leur mode de conditionnement ou leur support, etc., originaires de la République de Corée (ci-après dénommés «produit concerné»).

The product under review is certain electronic integrated circuits known as Dynamic Random Access Memories (DRAMs) manufactured using variations of metal oxide-semiconductors (MOS) process technology, including complementary MOS types (CMOS), of all types, densities, variations, access speed, configuration, package or frame, etc. originating in the Republic of Korea (‘the product concerned’).




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Métal-oxyde-silicium complémentaire ->

Date index: 2022-04-19
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