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Laser à rayons x mous
Lithographie EUV
Lithographie UV extrême
Lithographie X
Lithographie aux rayons X
Lithographie aux ultraviolets extrêmes
Lithographie par rayons X
Lithographie par rayons X mous
Lithographie par ultraviolets extrêmes
Lithographie ultraviolet extrême
Lithographie à rayon direct
Lithographie à rayons X
Lithographie à rayons X mous
Rayonnement X mou
Rayons X mous

Traduction de «lithographie par rayons x mous » (Français → Anglais) :

TERMINOLOGIE
voir aussi les traductions en contexte ci-dessous
lithographie par ultraviolets extrêmes | lithographie aux ultraviolets extrêmes | lithographie ultraviolet extrême | lithographie UV extrême | lithographie EUV | lithographie par rayons X mous

extreme ultraviolet lithography | extreme UV lithography | EUV lithography | soft X-ray lithography




lithographie par rayons X | lithographie aux rayons X | lithographie à rayons X | lithographie X

X-ray lithography | XRL | X-lithography


rayons X mous | rayonnement X mou

soft X-rays | soft X-ray radiation








TRADUCTIONS EN CONTEXTE
Les rayons X à faible énergie sont en fait plus absorbés que les rayons cosmiques à plus haute énergie que vous recevez en vol, ils sont donc plus dangereux et non pas moins dangereux pour la peau et les tissus mous.

Soft low-energy X-rays actually are more absorbed than the higher-energy cosmic rays you receive whilst flying and are thus more dangerous and not less dangerous to the skin and soft tissues.


Étant donné que la taille des semi-conducteurs ne cesse de diminuer, il est largement admis que dans 10 à 11 ans, la longueur d'onde de la lumière qui sera nécessaire à la lithographie ira au-delà du spectre ultraviolet, atteignant l'extrême ultraviolet (EUV) ou la zone des rayons X mous.

With the constant diminution in the semiconductor structure size, it is well established that within 10-11 years, the wave length of the light required in the lithography process will go past the ultra-violet spectrum into the Extreme-Ultra-Violet (EUV) or soft X-ray zone.


Elle est également en concurrence avec d'autres techniques (telles que le rayon X et la lithographie par faisceau électronique), qui ont également fait l'objet de nombreuses études aux États-Unis.

It also competes with other technologies (like X-ray and electron beam lithography), that have also been intensely studied in the USA.




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lithographie par rayons x mous ->

Date index: 2022-09-21
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